Diffraction-assisted extreme ultraviolet proximity lithography for fabrication of nanophotonic arrays

Danylyuk, Serhiy; Kim, Hyun-su; Brose, Sascha; Dittberner, Carsten; Loosen, Peter; Taubner, Thomas; Bergmann, Klaus; Juschkin, Larissa

New York, NY : American Institute of Physics [u.a.] (2013)
Fachzeitschriftenartikel

In: Journal of vacuum science & technology : JVST / B
Band: 31
Heft: 2
Seite(n)/Artikel-Nr.: 021602

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