Diffraction-assisted extreme ultraviolet proximity lithography for fabrication of nanophotonic arrays
Danylyuk, Serhiy (Corresponding author); Kim, Hyun-su; Brose, Sascha; Dittberner, Carsten; Loosen, Peter; Taubner, Thomas; Bergmann, Klaus; Juschkin, Larissa
New York, NY : American Institute of Physics [u.a.] (2013)
Fachzeitschriftenartikel
In: Journal of vacuum science & technology : JVST / B
Band: 31
Heft: 2
Seite(n)/Artikel-Nr.: 021602
Einrichtungen
- Fraunhofer-Institut für Lasertechnik - ILT [053100]
- JARA-FIT [080009]
- Juniorprofessur für Experimentalphysik [139430]
- Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
- Lehrstuhl für Technologie optischer Systeme [418910]
- Fachgruppe Physik [130000]
- Lehr- und Forschungsgebiet Metamaterialien und Nano-Optik [136720]
- Lehr- und Forschungsgebiet für Experimentalphysik [139420]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1116/1.4789445
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-CONV-072464