Modelling of sputtering yield amplification in serial reactive magnetron co-sputtering

Kubart, T.; Schmidt, Rüdiger Matti; Austgen, Michael; Nyberg, T.; Pflug, A.; Siemers, M.; Wuttig, Matthias; Berg, S.

Amsterdam : Elsevier, [u.a.] (2012)
Fachzeitschriftenartikel

In: Surface & coatings technology
Band: 206
Heft: 24
Seite(n)/Artikel-Nr.: 5055-5059

Einrichtungen

• Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
• Fachgruppe Physik [130000]