Sputter yield amplification by tungsten doping of Al(2)O(3) employing reactive serial co-sputtering: process characteristics and resulting film properties

Austgen, Michael; Köhl, Dominik; Zalden, Peter Erhard; Kubart, Thomas; Nyberg, Tomas; Pflug, Andreas; Siemers, M.; Berg, S.; Wuttig, Matthias

Bristol : IOP Publ. (2011)
Fachzeitschriftenartikel

In: Journal of physics / D, Applied physics
Band: 44
Heft: 34
Seite(n)/Artikel-Nr.: 345501

Einrichtungen

• JARA-FIT [080009]
• Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
• Fachgruppe Physik [130000]