Modelling of sputtering yield amplification effect in reactive deposition of oxides
Kubart, Tomas; Nyberg, T.; Pflug, Andreas; Siemers, M.; Austgen, Michael; Köhl, Dominik; Wuttig, Matthias; Berg, S.
Lausanne : Elsevier Sequoia (2010)
Fachzeitschriftenartikel
In: Surface & coatings technology
Band: 204
Heft: 23
Seite(n)/Artikel-Nr.: 3882-3886
Einrichtungen
- Fachgruppe Physik [130000]
- Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1016/j.surfcoat.2010.05.006
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-CONV-046461