Reactive direct current magnetron sputtering of tungsten oxide : a correlation between film properties and deposition pressure

Salinga, Christian Lothar; Kappertz, Oliver; Wuttig, Matthias

Amsterdam [u.a.] : Elsevier (2006)
Fachzeitschriftenartikel

In: Thin solid films
Band: 515
Heft: 4
Seite(n)/Artikel-Nr.: 2760-2764

Einrichtungen

• Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
• Fachgruppe Physik [130000]