Process stabilization and increase of the deposition rate in reactive sputtering of metal oxides and oxynitrides

Severin, Daniel; Kappertz, Oliver; Kubart, Thomas; Nyberg, Tomas; Berg, S.; Pflug, Andreas; Siemers, M.; Wuttig, Matthias

Melville, N.Y : American Institute of Physics (2006)
Fachzeitschriftenartikel

In: Applied physics letters
Band: 88
Heft: 16
Seite(n)/Artikel-Nr.: 161504

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