On the deposition rate in a high power pulsed magnetron sputtering discharge
Alami, Jones; Sarakinos, Kostas; Mark, G.; Wuttig, Matthias
Melville, N.Y : American Institute of Physics (2006)
Fachzeitschriftenartikel
In: Applied physics letters
Band: 89
Heft: 15
Seite(n)/Artikel-Nr.: 154104
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
- Fachgruppe Physik [130000]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1063/1.2362575
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-CONV-031269