Temperature stability of sputtered niobium oxide films

Venkataraj, S.; Drese, Robert Jens; Liesch, C.; Kappertz, Oliver; Jayavel, R.; Wuttig, Matthias

Melville, NY : AIP (2002)
Fachzeitschriftenartikel

In: Journal of applied physics
Band: 91
Seite(n)/Artikel-Nr.: 4863-4863

Einrichtungen

• Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
• Fachgruppe Physik [130000]