Increase of the deposition rate in reactive sputtering of metal oxides usinga ceramic nitride target
Severin, Daniel; Kappertz, Oliver; Nyberg, T.; Berg, S.; Pflug, Andreas; Wuttig, Matthias
Melville, NY : AIP (2009)
Fachzeitschriftenartikel
In: Journal of applied physics
Band: 105
Heft: 9
Seite(n)/Artikel-Nr.: 093302
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
- Fachgruppe Physik [130000]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1063/1.3124380
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-CONV-013425