Modelling of sputtering yield amplification in serial reactive magnetron co-sputtering

Amsterdam / Elsevier, [u.a.] (2012) [Fachzeitschriftenartikel]

Surface & coatings technology
Band: 206
Ausgabe: 24
Seite(n): 5055-5059

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Kubart, T.
Schmidt, Rüdiger Matti
Austgen, Michael
Nyberg, T.
Pflug, A.

Weitere Autorinnen und Autoren

Siemers, M.
Wuttig, Matthias
Berg, S.

Identifikationsnummern