Influence of nitrogen content on properties of direct current sputtered TiOxNy films

Mohamed, S. H.; Kappertz, Oliver; Ngaruiya, J. M.; Niemeier, T.; Drese, Robert Jens; Detemple, Ralf; Wakkad, M. M.; Wuttig, Matthias

Berlin : Wiley-VCH (2004)
Fachzeitschriftenartikel

In: Physica status solidi / A, Applications and materials science
Band: 201
Heft: 1
Seite(n)/Artikel-Nr.: 90-102

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