Process stabilization and increase of the deposition rate in reactive sputtering of metal oxides and oxynitrides
Melville, N.Y / American Institute of Physics (2006) [Fachzeitschriftenartikel]
Applied physics letters
Band: 88
Ausgabe: 16
Seite(n): 161504
Autorinnen und Autoren
Ausgewählte Autorinnen und Autoren
Severin, Daniel
Kappertz, Oliver
Kubart, Thomas
Nyberg, Tomas
Berg, S.
Weitere Autorinnen und Autoren
Pflug, Andreas
Siemers, M.
Wuttig, Matthias
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1063/1.2196048
- REPORT NUMBER: RWTH-CONV-031274