Process stabilization and increase of the deposition rate in reactive sputtering of metal oxides and oxynitrides

Melville, N.Y / American Institute of Physics (2006) [Fachzeitschriftenartikel]

Applied physics letters
Band: 88
Ausgabe: 16
Seite(n): 161504

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Severin, Daniel
Kappertz, Oliver
Kubart, Thomas
Nyberg, Tomas
Berg, S.

Weitere Autorinnen und Autoren

Pflug, Andreas
Siemers, M.
Wuttig, Matthias

Identifikationsnummern