Multi-technique characterization of tantalum oxynitride films prepared by reactive direct current magnetron sputtering
Venkataraj, Selveraj; Kittur, Harish; Drese, Robert Jens; Wuttig, Matthias
Amsterdam [u.a.] : Elsevier (2006)
Fachzeitschriftenartikel
In: Thin solid films
Band: 514
Heft: 1/2
Seite(n)/Artikel-Nr.: 1-9
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut [131110]
- Fachgruppe Physik [130000]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.320
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-CONV-031270